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26亿一台!ASML全新光刻机准备中:Intel提前锁定 冲击2nm工艺

发布时间:2022/06/28 科技 浏览:26

对于芯片厂商而言,光刻机显得至关重要,而ASML也在积极布局新的技术。据外媒报道称,截至2022年第一季度,ASML已出货136个EUV系统,约曝光7000万个晶圆已曝光。

按照官方的说法,新型号的EUV光刻机系统NXE:3600D将能达到93%的可用性,这将让其进一步接近DUV光刻机(95%的可用性)。

数据显示,NXE:3600D系统每小时可生产160个晶圆(wph),速度为30mJ/cm,这比NXE:3400C高18%。二正在开发的NXE:3800E系统最初将以30mJ/cm的速度提供大过195wph的产能,并在吞吐量升级后达到220wph。

据介绍,NXE:3600E将在像差、重叠和吞吐量方面进行渐进式光学改进,而在0.33NA的EUV光刻机领域,ASML路线图包括到2025年左右推出吞吐量约为220wph的NXE:4000F。

对于0.55NA的光刻机,需要更新的不但是其光刻机系统。同时还需要在光掩模、光刻胶叠层和图案转移工艺等方面齐头并进,才能让新设备应用成为可能。

根据ASML在一季度财务会议上披露的数据,公司的目标是在2022年出货55台EUV系统,并到2025年实现(最多)90台工具的计划。ASML同时还承认,90台可能超过2025年的实际需求,不过他们将其描述为为满足2030年1万亿美元半导体行业需求所做出的巨大努力。

按照之前的说法,ASML正在研发新款光刻机,价值高达4亿美元(约合26亿元人民币),双层巴士大、重超200吨。原型机预计2023年上半年完工,2025年首次投入使用,2026年到2030年主力出货。

这款机器应该指的就是High-NAEXE:5200(0.55NA),Intel是全球第一个下单的公司。所谓High-NA也就是高数值孔径,2nm之后的节点都得依赖它实现。

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